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序号	设备名称	所属领域	厂商及型号规格	性能参数	主要功能和用途
1	多功能组织培养测试仪	新材料	多功能组织培养测试仪	450N/20g	用于组织培养过程中的监测。
2	流变仪	新材料	流变仪	-40-200℃	用于测定聚合物熔体，聚合物溶液、悬浮液、乳液、涂料、油墨和食品等流变性质的仪器。
3	计算集群	新材料	计算集群	96台双x5650计算	采用集群技术来研究计算的计算机。
4	透射电镜	新材料	透射电镜	40度	一种高分辨率、高放大倍数的显微镜，能提供极微细材料的组织结构、晶体结构和化学成分等方面的信息。
5	气体吸附仪	新材料	气体吸附仪	0.35-500NM	研究材料吸附性能的精密仪器。可进行在不同温度下的吸附、脱附测试。
6	X射线光电子能谱仪	新材料	X射线光电子能谱仪	0.45EV	用于样品表面元素组成及化学态分析。
7	X射线衍射仪	新材料	X射线衍射仪	168度	利用X射线衍射原理研究物质内部微观结构。
8	激光共聚焦显微镜	新材料	激光共聚焦显微镜	108-17280X	对细胞及组织标本的荧光进行定性、定量和定位分析。
9	太赫兹光谱仪	新材料	太赫兹光谱仪	0.1-3.5TH	用来识别与探测一个分子与另外一个分子结合或解离等。
10	紫外分光光度计	新材料	紫外分光光度计	190-3300NM	用于检定物质、与标准物及标准图谱对照等，适合对各种物质进行定量及定性分析。
11	泡沫扫描仪	新材料	泡沫扫描仪	80度	用于测量和评价液体气泡能力和泡沫稳定性。
12	高真空共溅镀仪	新材料	高真空共溅镀仪	10-5PA	制备单层、多层、金属、非金属、半导体、薄膜材料。
13	纳米粉体制备分散器	新材料	纳米粉体制备分散器	0.45L	用于纳米材料制备。
14	电导率/霍尔系统	新材料	电导率/霍尔系统	0.5T	量测化合物半导体材料的电阻值，载体浓度及迁移率
15	矢量网络分析仪	新材料	矢量网络分析仪	10M-67GHZ	射频微波领域的万用表。
16	数显坐标磨床	新材料	数显坐标磨床	320X600M	用于磨削孔距精度很高的孔以及各种轮廓形状的机床。
17	微珠降解设备	新材料	微珠降解设备	90度	用于微珠降解的设备。
18	微珠处理设备	新材料	微珠处理设备	90度	用于微珠处理的设备。
19	超导磁体系统	新材料	超导磁体系统	9T	用超导导线作励磁线圈的磁体系统。
20	化学吸附分析仪	新材料	化学吸附分析仪	1100度	测试反应气氛在催化剂活性位上的吸附行为和金属在载体表面的分散状况，测试固体物质的比表面和孔径分布状况。

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21	脉冲激光沉积系统	新材料	脉冲激光沉积系统	1200度	用来制备金属、半导体、氧化物、氮化物、碳化物等各种物质薄膜。
22	离子束辐照装置	新材料	离子束辐照装置	6.67X10-5PA	用于离子束辐照的装置。
23	电子束沉积系统	新材料	电子束沉积系统	10-6PA	用于电子束沉积的系统。
24	高性能计算机集群	新材料	高性能计算机集群	4X320G/24G	处理大型计算问题的计算机集群。
25	物理吸附仪	新材料	Belsorp	真空度10-6kPa	在低温状态下，以不同的压力点分别测量固体表面吸附或脱附的气体的量，包括固体最外部和可到达的内部孔的表面，由吸附等温线或脱附等温线依据不同的理论计算颗粒比表面积、孔体积、孔分布等
26	气相色谱仪	新材料	北京谱析公司	1UM	用于对混合气体中各组成分进行分析检测。
27	荧光显微镜	新材料	来卡公司	16－630倍	以紫外线为光源，用以照射被检物体，使之发出荧光，然后在显微镜下观察物体的形状及其所在位置
28	超高真空电子束镀膜机	新材料	美国SCT公司	真空度7*10-11乇	给样品镀膜
29	磁控溅射仪	新材料	金盛公司	800度	镀膜
30	半导体器件测试仪	新材料	安捷伦公司	10NS-1MS	测试半导体性能
31	网络分析仪	新材料	安捷伦公司	300K-20GHZ	网络性能分析
32	光刻机	新材料	成都真空公司	0.08MPA	刻蚀
33	探针台	新材料	CASCADE公司	150MM	主要应用于半导体行业以及光电行业的测试
34	显微镜	新材料	奥林帕斯公司	100倍	用于观察材料表面
35	研磨机	新材料	ALLIED公司	350转/S	研磨样品
36	光纤位移传感器	新材料	MTI公司	5nm	用于测量材料直接的相对位移
37	电化学工作站	新材料	瑞士万通	40*50CM	用于电极上的稳态电流测量
38	电化学测试仪	新材料	AMETEK	100V精度0.2%	用于电极上的稳态电流测量
39	电化学测试仪	新材料	AMETEK	100V精度0.2%	用于电极上的稳态电流测量
40	差热分析仪	新材料	美国TA公司	-80度-725度	材料的差热分析